
建壹真空具有真空技术的深刻认知和丰富的真空工程经验,有来自航天、航空、上市公司和科研院所的专家作为中坚力量。 围绕PECVD/ICP-CVD镀膜、蒸发镀膜、真空冶炼、环境与高度模拟、静态膨胀法真空标定、箱式真空系统及热管真空加热等场景,形成了从试验验证到工程化交付的高端真空装备矩阵。 设备在极限真空、压力/温度控制、工艺稳定性与安全性方面具备扎实工程能力,可为科研与产业客户提供定制化解决方案。
四大方向覆盖真空技术核心应用场景
作为航天工程的地面“太空舱”,能够精准复现太空的真空、高低温等极端环境,为航天器研制提供关键的环境测试验证手段。
→如同赋予材料新功能的“魔术师”,在真空环境下将材料沉积于基体表面,广泛应用于半导体、光学、装饰、包装防护等多个核心领域。
→堪称新材料制备的“炼金炉”,在无氧真空氛围中实现材料的加热、冷却与改性,有效提升材料的性能与纯度。
→真空技术作为一门应用技术,涉及领域广泛,我司支持定制多种可用于科研生产的仪器设备,如真空除气、真空释气、真空检漏、标定、储存等。
→如同赋予材料新功能的“魔术师”,在真空环境下将材料沉积于基体表面,广泛应用于半导体、光学、装饰、包装防护等多个核心领域。
核心功能:在真空环境下,将固态或气态物质通过物理或化学方法沉积到工件表面,形成一层微米甚至纳米级的薄膜。这层薄膜可赋予材料耐磨、耐腐蚀、特殊光学特性、电学特性等关键性能,是提升工业产品品质与功能的核心工艺。

PECVD卷绕镀膜设备主要用于在PET卷材薄膜表面化学沉积镀膜,采用中频激发等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)隔阻膜层(硅的氧化物),以改善PET表面状态及改善透过性能,起到可靠的保护作用。
| 序号 | 项目 | 指标 |
|---|---|---|
| 1 | 极限真空度 | 优于5.0×10-4Pa |
| 2 | 本底压力 | 120min优于3.0×10-3Pa |
| 3 | 工作压力 | 0.5~15Pa连续可调 |
| 4 | 镀膜幅宽 | 1250mm |
| 5 | 卷绕速度 | 0~100m/min(可调) |
| 6 | 最大卷径 | 600mm |
| 7 | 基膜厚度 | 12~125μm(PET) |
| 8 | 中频电源 | 频率10~100kHz、功率10kW可调 |
| 9 | 水蒸气透过率 | 优于0.5g/m2.day |

PECVD真空镀膜系统具有在大尺度空间内异形结构件镀膜均匀性好、沉积速率高等特点,针对未来发展中需考虑大型曲面壳体、四边封壳体等提高水汽氧气阻隔性能的实际需求,特研制ICP-CVD镀膜试验机。
| 序号 | 项目 | 指标 |
|---|---|---|
| 1 | 本底压力 | 优于1.3×10-3Pa |
| 2 | 工作压力 | 0.5~5Pa连续可调 |
| 3 | 工艺气体 | 氧气流量0~1000sccm 单体流量0~200sccm |
| 4 | 可镀工件 | 400mm(L)×300mm(W)×25mm(H) |
| 5 | 沉积速率 | >10nm/min |
| 6 | 电源功率 | 射频电源3000W 偏压电源500W |

适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,导体材料实验电极制作。
| 序号 | 项目 | 指标 |
|---|---|---|
| 1 | 本底压力 | 1.3×10-3Pa |
| 2 | 工作压力 | 镀Au及Cu膜为5×10-3Pa |
| 3 | 钼舟 | 最高温度1300℃ |
| 4 | 功率 | 15V,100A |
堪称新材料制备的“炼金炉”,在无氧真空氛围中实现材料的加热、冷却与改性,有效提升材料的性能与纯度。
核心功能:新材料制备的“炼金炉” 在无氧的真空环境中对材料进行加热处理,从根本上避免氧化和污染,精准改变材料的物理或化学性质,是制造高性能、高精度关键部件的核心工艺设备。

真空感应熔炼铸造炉是熔炼坩埚封闭在真空室中,利用电磁感应产生的涡流热做热源(电能转换成热能)。在真空状态下进行金属的冶炼并浇铸,从而得到高质量材料的熔炼设备。可用于钢、铁、铜、铝、锌、镁、镍基、钴基、稀土金属等金属的熔炼。 本套电炉设备主要用于锡钛合金的熔炼并兼顾其它金属材料。
| 序号 | 项目 | 指标 |
|---|---|---|
| 1 | 极限真空 | ≤6.67×10-1Pa |
| 2 | 炉体直径 | 1100mm |
| 3 | 最高温度 | 1750℃ |
| 4 | 额定容量 | 50kg(锡钛合金) |
| 5 | 坩埚尺寸 | 外径270mm,内径230mm 外高280mm,内高250mm |
| 6 | 中频电源 | 功率:100kW;频率:2500Hz |

用于热管在真空环境下的高温除气工艺。
| 序号 | 项目 | 指标 |
|---|---|---|
| 1 | 内部有效空间 | Φ300mm×L3000mm |
| 2 | 极限真空度 | 优于1.0×10-4Pa |
| 3 | 工作真空度 | 优于1.0×10-3Pa |
| 4 | 温度范围 | 室温~+600℃ |
真空技术作为一门应用技术,涉及领域广泛,我司支持定制多种可用于科研生产的仪器设备,如真空除气、真空释气、真空检漏、标定、储存等。




本设备是一个环境/高度模拟试验箱,根据RTCA/DO-160F/G和GJB150/150A的相关法规用来测试飞机的发电机。 环境模拟包括施加在驱动功率高达500千瓦的发电机上的压力、温度、湿度和冷却空气。
| 序号 | 项目 | 指标 |
|---|---|---|
| 1 | 腔体尺寸 | 上DN2400mm×L2200mm 下DN1800mm×L1000mm 通道DN1000/DN400 |
| 2 | 工作气压 | 100Pa~1013.25kPa |
| 3 | 工作温度 | -70℃~+350℃ |
| 4 | 湿度范围 | 10~98%RH |
| 5 | 最大进气量 | 15kg/min |

静态膨胀法真空标定装置用于压力传感器的标定;原理采用静态膨胀法方式进行压力标定。
| 序号 | 项目 | 指标 |
|---|---|---|
| 1 | 膨胀室 | 容积:100L 极限真空:优于5×10-5Pa 压升率:≤2×10-3Pa/h 烘烤温度:150℃ |
| 2 | 样品室(6组) | 测试工件数:10个 烘烤温度:150℃ |
| 3 | 取样室 | 稳压室:120mL,12mL 烘烤温度:150℃ |
| 4 | 稳压室 | 稳压室:20L 烘烤温度:150℃ |
| 5 | 真空度范围 | 10-2 ~ 10-1Pa,10-1~1Pa 1~10Pa,10~100Pa 精度要求为10% |

真空工作台主要用于比对、验证真空压力传感器的性能。
| 序号 | 项目 | 指标 |
|---|---|---|
| 1 | 真空玻璃尺寸 | L700mm×W300mm |
| 2 | 工作真空度 | ≤5.0×10-3Pa |
| 3 | 可调高度 | 0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm |
| 4 | 可标定传感器 | 3支 |

系统提供真空、一定范围内可温度交变的恒温冷板,供星载热控组件进行地面测试。
| 序号 | 项目 | 指标 |
|---|---|---|
| 1 | 净空间尺寸 | W500×H500mm×D500mm |
| 2 | 真空度 | 优于1.3×10-3Pa |
| 3 | 温度范围 | -50~+100℃ |
