高端真空设备

高端真空设备

建壹真空具有真空技术的深刻认知和丰富的真空工程经验,有来自航天、航空、上市公司和科研院所的专家作为中坚力量。 围绕PECVD/ICP-CVD镀膜、蒸发镀膜、真空冶炼、环境与高度模拟、静态膨胀法真空标定、箱式真空系统及热管真空加热等场景,形成了从试验验证到工程化交付的高端真空装备矩阵。 设备在极限真空、压力/温度控制、工艺稳定性与安全性方面具备扎实工程能力,可为科研与产业客户提供定制化解决方案。

高端真空设备分类

四大方向覆盖真空技术核心应用场景

真空镀膜设备

如同赋予材料新功能的“魔术师”,在真空环境下将材料沉积于基体表面,广泛应用于半导体、光学、装饰、包装防护等多个核心领域。

真空热处理设备

堪称新材料制备的“炼金炉”,在无氧真空氛围中实现材料的加热、冷却与改性,有效提升材料的性能与纯度。

其它特殊真空设备

真空技术作为一门应用技术,涉及领域广泛,我司支持定制多种可用于科研生产的仪器设备,如真空除气、真空释气、真空检漏、标定、储存等。

真空镀膜设备

如同赋予材料新功能的“魔术师”,在真空环境下将材料沉积于基体表面,广泛应用于半导体、光学、装饰、包装防护等多个核心领域。

核心功能:在真空环境下,将固态或气态物质通过物理或化学方法沉积到工件表面,形成一层微米甚至纳米级的薄膜。这层薄膜可赋予材料耐磨、耐腐蚀、特殊光学特性、电学特性等关键性能,是提升工业产品品质与功能的核心工艺。

01 PECVD卷绕镀膜设备

PECVD卷绕镀膜设备主要用于在PET卷材薄膜表面化学沉积镀膜,采用中频激发等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)隔阻膜层(硅的氧化物),以改善PET表面状态及改善透过性能,起到可靠的保护作用。

序号项目指标
1极限真空度优于5.0×10-4Pa
2本底压力120min优于3.0×10-3Pa
3工作压力0.5~15Pa连续可调
4镀膜幅宽1250mm
5卷绕速度0~100m/min(可调)
6最大卷径600mm
7基膜厚度12~125μm(PET)
8中频电源频率10~100kHz、功率10kW可调
9水蒸气透过率优于0.5g/m2.day

02 ICP-CVD镀膜机

PECVD真空镀膜系统具有在大尺度空间内异形结构件镀膜均匀性好、沉积速率高等特点,针对未来发展中需考虑大型曲面壳体、四边封壳体等提高水汽氧气阻隔性能的实际需求,特研制ICP-CVD镀膜试验机。

序号项目指标
1本底压力优于1.3×10-3Pa
2工作压力0.5~5Pa连续可调
3工艺气体氧气流量0~1000sccm 单体流量0~200sccm
4可镀工件400mm(L)×300mm(W)×25mm(H)
5沉积速率>10nm/min
6电源功率射频电源3000W 偏压电源500W

03 小型蒸发镀膜机

适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,导体材料实验电极制作。

序号项目指标
1本底压力1.3×10-3Pa
2工作压力镀Au及Cu膜为5×10-3Pa
3钼舟最高温度1300℃
4功率15V,100A

真空热处理设备

堪称新材料制备的“炼金炉”,在无氧真空氛围中实现材料的加热、冷却与改性,有效提升材料的性能与纯度。

核心功能:新材料制备的“炼金炉” 在无氧的真空环境中对材料进行加热处理,从根本上避免氧化和污染,精准改变材料的物理或化学性质,是制造高性能、高精度关键部件的核心工艺设备。

04 真空冶炼炉

真空感应熔炼铸造炉是熔炼坩埚封闭在真空室中,利用电磁感应产生的涡流热做热源(电能转换成热能)。在真空状态下进行金属的冶炼并浇铸,从而得到高质量材料的熔炼设备。可用于钢、铁、铜、铝、锌、镁、镍基、钴基、稀土金属等金属的熔炼。 本套电炉设备主要用于锡钛合金的熔炼并兼顾其它金属材料。

序号项目指标
1极限真空≤6.67×10-1Pa
2炉体直径1100mm
3最高温度1750℃
4额定容量50kg(锡钛合金)
5坩埚尺寸外径270mm,内径230mm 外高280mm,内高250mm
6中频电源功率:100kW;频率:2500Hz

09 RZ-3003000热管真空加热设备

用于热管在真空环境下的高温除气工艺。

序号项目指标
1内部有效空间Φ300mm×L3000mm
2极限真空度优于1.0×10-4Pa
3工作真空度优于1.0×10-3Pa
4温度范围室温~+600℃

其它特殊真空设备

真空技术作为一门应用技术,涉及领域广泛,我司支持定制多种可用于科研生产的仪器设备,如真空除气、真空释气、真空检漏、标定、储存等。

05 环境箱及空气调节通道

本设备是一个环境/高度模拟试验箱,根据RTCA/DO-160F/G和GJB150/150A的相关法规用来测试飞机的发电机。 环境模拟包括施加在驱动功率高达500千瓦的发电机上的压力、温度、湿度和冷却空气。

序号项目指标
1腔体尺寸上DN2400mm×L2200mm 下DN1800mm×L1000mm 通道DN1000/DN400
2工作气压100Pa~1013.25kPa
3工作温度-70℃~+350℃
4湿度范围10~98%RH
5最大进气量15kg/min

06 静态膨胀法真空标定装置

静态膨胀法真空标定装置用于压力传感器的标定;原理采用静态膨胀法方式进行压力标定。

序号项目指标
1膨胀室容积:100L 极限真空:优于5×10-5Pa 压升率:≤2×10-3Pa/h 烘烤温度:150℃
2样品室(6组)测试工件数:10个 烘烤温度:150℃
3取样室稳压室:120mL,12mL 烘烤温度:150℃
4稳压室稳压室:20L 烘烤温度:150℃
5真空度范围10-2 ~ 10-1Pa,10-1~1Pa 1~10Pa,10~100Pa 精度要求为10%

07 真空工作台

真空工作台主要用于比对、验证真空压力传感器的性能。

序号项目指标
1真空玻璃尺寸L700mm×W300mm
2工作真空度≤5.0×10-3Pa
3可调高度0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm
4可标定传感器3支

08 箱式真空系统

系统提供真空、一定范围内可温度交变的恒温冷板,供星载热控组件进行地面测试。

序号项目指标
1净空间尺寸W500×H500mm×D500mm
2真空度优于1.3×10-3Pa
3温度范围-50~+100℃
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